26/08/07: Bis zu 70 % des gesamten Wasserverbrauchs einer Fab entfallen auf die Erzeugung von Reinstwasser. In der Halbleiterindustrie wird Reinstwasser (Ultra Pure Water) eingesetzt, weil selbst geringe Verunreinigungen die Funktion moderner Mikrochips zerstören können. Die Strukturen auf Wafern liegen heute im Nanometerbereich – deutlich kleiner als Bakterien, Staub oder gelöste Ionen.

Reinstwasser wird bei fast jedem Prozessschritt zum Spülen und Reinigen verwendet:
🔹Entfernt Partikel, Chemikalienreste und Metallionen
🔹Hinterlässt keine Rückstände
🔹 Verhindert Defekte und Kurzschlüsse

Ein einzelnes Partikel kann eine komplette Chipstruktur unbrauchbar machen. Genau hier setzen wir mit unseren maßgeschneiderten Reinstwasserlösungen an:
🔹Ganzheitliche Systeme zur Erzeugung, Aufbereitung und Verteilung von Reinstwasser (UPW), die speziell auf die sensiblen Prozesse der Halbleiterfertigung ausgelegt sind
🔹Durch den Einsatz modernster Technologien stellen wir sicher, dass sämtliche relevanten Qualitätsparameter – wie Partikelgehalt, TOC, Leitfähigkeit und mikrobiologische Reinheit – zuverlässig
eingehalten oder unterschritten werden
🔹Unsere Lösungen sind skalierbar, prozesssicher und auf maximale Anlagenverfügbarkeit ausgelegt – für stabile Produktionsprozesse und hohe Yield-Raten.

Dank unserer technischen Expertise, branchenspezifischen Erfahrung und kundenspezifischen Auslegung schaffen wir Reinstwassersysteme, die den heutigen und zukünftigen Anforderungen der Halbleiterindustrie gerecht werden.

👉 Kontaktieren Sie uns jetzt für eine individuelle Beratung.